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機械式真空ポンプの一種で、金属製のタービン翼を持った回転体であるロータが高速回転し、気体分子を弾き飛ばすことによりガスを排気するポンプです。半導体・FPD製造プロセスを代表として、幅広い分野に応用されています。
ハードプロセス、ライトプロセス、大排気量、一般産業向けまで幅広く提案します。 ターボ分子ポンプと一緒に排気ユニットでの提案も可能です。
バラトロンシリーズは独立型のトランスデューサで、電源供給のみで高レベル出力を提供します。この信号は、直接プロセスコントローラ或いは他シリーズとインターフェースすることができます。加圧限界310KPaを実現する最新センサを内蔵し、優れた長期安定性を発揮します。様々な環境に対応できるよう、センサの材質はインコネル都市、全溶接構造を採用しています。
高真空・超高真空・超超高真空条件までの全ての真空レベルに設計されています。 クリーンルーム条件下で生産され、それぞれの用途に合わせたオーダーメイドが可能です。高い純度に加え、高精度な機能と過度なプロセス条件下での耐久性が魅力です。
リークディテクタは水素ガス、もしくはヘリウムガスを使った安全で扱いやすい漏れ検査装置です。 MSE-2400形シリーズはリークテストを行うための様々な特長と性能をもつリークディテクタです。 水素による漏れ検査についても対応いたします。
産業向けに開発された第16族元素センサで、真空プロセスで使用される最も重要な材料である酸素、硫黄、セレンが含まれています。 基本的な用途は酸素レベルをサンプリングし、効率的な燃焼を確保するために自動車エンジンで使用されます。差動励起RGA(ノイズが少ない)と比較して、RGAおよび光スペクトル法からのガス出力をより高い感度で一致させます。
小型ロータリーカソードは他社製のロータリーカソードとは異なり独創的なデザインを採用しており(特許申請中)、製矩形マグネトロンのスペースと同じになっており、既存の短形マグネトロンをロータリーマグネトロンに置き換える事が可能です。
Speedfloは最も先進的な反応性スパッタリングプロセスコントローラであり、反応性スパッタリングをフィードバック制御にて制御することよりスパッタリングレートの改善、複数のガス導入系(マルチゾーン)をリアルタイム制御する事による均一性の改善および正確なプロセスの監視等を行うことが可能になります。 先進的なフィードバックコントローラで反応性スパッタリングプロセスを最適化 成膜レート・膜質・プロセスの安定性を改善します。
差動排気機構なしで真空容器内のガス分析を高速で行います。(大気圧ガスのサンプリングにのみ差動排気機構が必要) RGA分析器と異なり、Optixでは真空雰囲気や化学物質から光学窓によって検出器が隔離されており、プロセスによる検出器の劣化が発生しない構造になっています。
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