矩形プレーナマグネトロンスパッタソース

概要

Gencoa社は業界随一の多様な矩形プレーナマグネトロンソースを内部取付け方式および外部フランジ取付け方式に関わらず提供しています。
また、マグネットオプションは他社の追随を許さないほどの多様な オプションを用意しており、お客様の成膜要件に最適化したオプションを提供し続けています。
3D CADによる柔軟な設計手法により、標準品だけでなく複雑なカスタマイズ製品にも幅広く対応しています。
 
高効率型(HY)マグネットオプションは最も標準的に製造しているマグネットオプションになり、製造期間の延長化や材料費の低減が要求される製造設備に最もお勧めできるマグネットオプションです。
  

特長

高品質および優良サポート体制
業界随一の幅広いオプションを提供
多様な成膜プロセスに対応可能な幅広いマグネットオプション
高効率型HYマグネットでのターゲット使用効率 45%〜60%可能
HYマグネットにて40%の効率を保証可能
標準で様々なターゲット冷却方法に対応
M8ネジを使用した堅牢な作り、ネジのかじりつき防止実装
ターゲット面よりも低いアノード面により付着物およびそれによる短絡を防止
DC、パルスDCおよびRF電源など全ての電源に対応
3D CADの提供により装置メーカーへのOEM供給に対応
全ての製品はリーク及び電気チェックを実施後出荷
プロセス試験にも要求に応じて対応可能
蓄積した技術ノウハウを結集した製品

スペック/仕様

インターナルシャフト取付、カンチレバーサポート、外部フランジ取付
長時間のプロセス安定を可能にする「高さゼロ」アノード設計
ターゲットクランプ用M8ネジはベアリング用鋼材にて製造されたパーツにネジ込まれ、同じ材料に寄るネジのかじり付きを防止
高均一性およびフィードバック制御の為の反応ガスおよびアルゴンガス導入オプション
反応性誘電体スパッタ成膜用に電気的フローティングアノードまたは隠れアノードオプション
標準でマグネトロンフランジ冷却機構付き
アノードをチャンバに取付ける場合にはアノード無しでの提供も可能
プラズマモニタやファイバオプティクス等の組込みも可能
反応性スパッタ統合パッケージとしてダブルマグネトロン、ガス導入および反応ガスコントローラを提供
高出力RF電源にはファラデーケージ型設計およびマッチングボックス取付治具を提供可能

その他

詳細については下記メーカーHPをご参照ください。
Gencoa社│矩形プレーナマグネトロンスパッタソース

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